化學(xué)儀器模板

西安馳豐精密參加2018航空航天非接觸式3D精密計(jì)量研討會(huì)。

2019年，諾飛勘產(chǎn)品入選《航空制造技術(shù)》雜志。

具有挑戰(zhàn)性的粗糙度測(cè)量在難以到達(dá)的地方測(cè)量粗糙度對(duì)許多制造商來(lái)說(shuō)是一個(gè)挑戰(zhàn)。狹窄的開(kāi)口可防止許多粗糙度計(jì)進(jìn)入孔、管、圓柱體和其他狹窄空間內(nèi)。然而，獲取這些表面光潔度測(cè)量值通常至關(guān)重要，尤其是在粗糙度影響零件性能的零件上。為了應(yīng)對(duì)這一挑戰(zhàn)，Novacam 設(shè)計(jì)并制造了使用小直徑光學(xué)探頭進(jìn)行測(cè)量的OPTICAL 3D PROFILOMETER TM系統(tǒng)。這些基于光纖的探頭伸入內(nèi)部以測(cè)量粗糙度（以...

什么是 CMP 墊以及為什么要測(cè)量它們？CMP 墊是用于半導(dǎo)體行業(yè)CMP（化學(xué)機(jī)械拋光或平面化）工藝的耗材，用于平整和拋光硅晶圓。墊子是圓盤(pán)形的，最常見(jiàn)的是由硬質(zhì)多孔聚氨酯泡沫制成，并帶有狹窄的高縱橫比凹槽圖案（見(jiàn)圖）。CMP工藝的作用是提高硅片的性能，進(jìn)而用于開(kāi)發(fā)高性能微處理器和存儲(chǔ)芯片。由于晶圓由多層構(gòu)成，每個(gè)晶圓通常要經(jīng)過(guò)多次 CMP 工藝。在墊制造和 CMP 過(guò)程中都需要對(duì) CMP ...

我們之前的粗糙度測(cè)量文章介紹了一種在難以到達(dá)的空間（例如管、孔或窄槽）中測(cè)量線(xiàn)性（軸向）粗糙度的方法。但是，如果您需要測(cè)量難以到達(dá)的空間周?chē)拇植诙仍趺崔k？在 ID 表面光潔度影響零件性能的高精度零件的制造中通常需要此功能。例子汽車(chē)或航空航天工業(yè)中的密封面就是最好的例子。以發(fā)動(dòng)機(jī)燃油噴射器的閥座為例。氣門(mén)座內(nèi)徑圓周粗糙度過(guò)大會(huì)影響密封，造成漏氣，影響發(fā)動(dòng)機(jī)效率，最終造成嚴(yán)重的安全隱患。因此，...

慕尼黑上海光博會(huì)LASER PHOTONICS CHINA由慕尼黑展覽（上海）有限公司主辦的慕尼黑上海光博會(huì)，作為亞洲激光、光學(xué)、光電行業(yè)盛會(huì)，自2021年的完美謝幕，慕尼黑上海光博會(huì)將于2022年7月13-15日在國(guó)家會(huì)展中心（上海）盛大舉行。2022年慕尼黑上海光博會(huì)與“慕展”旗下的重要品牌展會(huì)——慕尼黑上海電子生產(chǎn)設(shè)備展（productronica China）及與機(jī)器視覺(jué)產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟聯(lián)合...

2022CME上海國(guó)際機(jī)床展時(shí)間：2022年11月16日-19日地點(diǎn)：國(guó)家會(huì)展中心（上海虹橋）CME上海國(guó)際機(jī)床展經(jīng)過(guò)7年快速發(fā)展，已成為國(guó)際展覽業(yè)協(xié)會(huì)（UFI）認(rèn)證的國(guó)際性機(jī)床展覽會(huì)，是全球制造業(yè)發(fā)展水平和前沿信息的國(guó)際化窗口，同時(shí)也是華東地區(qū)及全國(guó)機(jī)床設(shè)備最新技術(shù)產(chǎn)品集中采購(gòu)的交易平臺(tái)。? ? 2021年CME上海國(guó)際機(jī)床展共吸引全球1500余家品牌企業(yè)在金屬切削、金屬成形、磨削工量具、...